靶材檢測(cè)
實(shí)驗(yàn)室擁有眾多大型儀器及各類(lèi)分析檢測(cè)設(shè)備,研究所長(zhǎng)期與各大企業(yè)、高校和科研院所保持合作伙伴關(guān)系,始終以科學(xué)研究為首任,以客戶(hù)為中心,不斷提高自身綜合檢測(cè)能力和水平,致力于成為全國(guó)科學(xué)材料研發(fā)領(lǐng)域服務(wù)平臺(tái)。
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注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試望見(jiàn)諒。
聯(lián)系中化所
靶材檢測(cè)到哪里做?中化所材料檢測(cè)機(jī)構(gòu)可提供靶材檢測(cè)服務(wù),為CMA資質(zhì)認(rèn)證機(jī)構(gòu),高新技術(shù)企業(yè),第三方材料實(shí)驗(yàn)室,針對(duì)產(chǎn)品研發(fā)、質(zhì)量控制中遇到的問(wèn)題,提供成分檢測(cè)、產(chǎn)品檢測(cè)、產(chǎn)品檢測(cè)、儀器檢測(cè)等綜合解決方案,儀器齊全,科研團(tuán)隊(duì)強(qiáng)大,7-15個(gè)工作日可出具檢測(cè)報(bào)告,支持掃碼查詢(xún)真?zhèn)危珖?guó)上門(mén)取樣、寄樣檢測(cè)服務(wù),檢測(cè)周期短、檢測(cè)費(fèi)用低、檢測(cè)數(shù)據(jù)科學(xué)準(zhǔn)確!
檢測(cè)周期:7-15個(gè)工作日
檢測(cè)費(fèi)用:工程師根據(jù)客戶(hù)檢測(cè)需求以及實(shí)驗(yàn)復(fù)雜程度制定實(shí)驗(yàn)方案進(jìn)行報(bào)價(jià)。
靶材檢測(cè)范圍
金屬靶材,半導(dǎo)體靶材,電子靶材,噴涂靶材,稀土金屬靶材,合金靶材,高純靶材,氧化鈮靶材,硅鋁靶材,氧化銦靶材等。
靶材檢測(cè)項(xiàng)目
REACH檢測(cè),化學(xué)純度檢測(cè),無(wú)損檢測(cè),表面粗糙度檢測(cè),雜質(zhì)國(guó)標(biāo)檢測(cè),表面缺陷檢測(cè),平整度檢測(cè),XRD檢測(cè),X射線(xiàn)檢測(cè),ICP檢測(cè),金相檢測(cè),雜質(zhì)含量檢測(cè)等。(更多檢測(cè)項(xiàng)目,您可咨詢(xún)實(shí)驗(yàn)室工程師,為您詳細(xì)解答。)
中化所檢測(cè)報(bào)告有哪些作用?可以幫您解決哪些問(wèn)題?
1、銷(xiāo)售使用。(銷(xiāo)售自己的產(chǎn)品,出具第三方檢測(cè)報(bào)告讓客戶(hù)更加信賴(lài)自己的產(chǎn)品質(zhì)量)
2、研發(fā)使用。(研發(fā)過(guò)程中,遇到一些比較棘手的問(wèn)題,通過(guò)檢測(cè)報(bào)告數(shù)據(jù)來(lái)解決問(wèn)題,從而縮短研發(fā)周期,降低研發(fā)成本)
3、改善產(chǎn)品質(zhì)量。(通過(guò)對(duì)比檢測(cè)數(shù)據(jù),發(fā)現(xiàn)自身產(chǎn)品問(wèn)題所在,提高產(chǎn)品質(zhì)量,降低生產(chǎn)成本)
4、科研論文數(shù)據(jù)使用。
5、競(jìng)標(biāo),投標(biāo)使用(中化所檢測(cè)周期比較短,檢測(cè)費(fèi)用低,認(rèn)可度比較高,特別適合投標(biāo)使用)
靶材檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)
ASTM F1709-1997(2008)電子薄膜用高純度鈦濺射靶材的規(guī)格
GB/T 20510-2017氧化銦錫靶材
GB/T 23611-2009金靶材
GB/T 29658-2013電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材
GB/T 38389-2019氧化銦錫靶材化學(xué)分析方法
GB/T 39157-2020靶材技術(shù)成熟度等級(jí)劃分及定義
GB/T 39159-2020集成電路用高純銅合金靶材
GB/T 39160-2020薄膜太陽(yáng)能電池用碲鋅鎘靶材
GB/T 39163-2020靶材與背板結(jié)合強(qiáng)度測(cè)試方法
JC/T 2201-2013鍍膜玻璃用靶材
T/CAS 304-2018磁控濺射硅靶材及綁定靶材
T/CSRE 19001-2020金屬鐿靶材
T/ZZB 0093-2016集成電路用高純鈦濺射靶材
T/ZZB 0639-2018氧化鋅鋁磁控濺射靶材
XB/T 512-2020鏑、鋱金屬靶材
XB/T 515-2020鈧鋁合金靶材
YS/T 718-2009平面磁控濺射靶材 光學(xué)薄膜用鈮靶
YS/T 719-2009平面磁控濺射靶材 光學(xué)薄膜用硅靶
YS/T 819-2012電子薄膜用高純銅濺射靶材
YS/T 826-2012五氧化二鈮靶材
YS/T 837-2012濺射靶材-背板結(jié)合質(zhì)量超聲波檢驗(yàn)方法
YS/T 893-2013電子薄膜用高純鈦濺射靶材
YS/T 935-2013電子薄膜用高純金屬濺射靶材純度等級(jí)及雜質(zhì)含量分析和報(bào)告標(biāo)準(zhǔn)指南
YS/T 936-2013集成電路器件用鎳釩合金靶材
YS/T 937-2013鎳鉑靶材
YS/T 1024-2015濺射用鉭靶材
YS/T 1025-2015電子薄膜用高純鎢及鎢合金濺射靶材
YS/T 1053-2015電子薄膜用高純鈷靶材
YS/T 1063-2015鉬靶材
YS/T 1124-2016磁性濺射靶材透磁率測(cè)試方法
YS/T 1129-2016鎢鈦合金靶材
YS/T 1156-2016銅銦鎵硒靶材
YS/T 1158.1-2016銅銦鎵硒靶材化學(xué)分析方法 第1部分:鎵量和銦量的測(cè)定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法
YS/T 1158.2-2016銅銦鎵硒靶材化學(xué)分析方法 第2部分:硒量的測(cè)定 重量法
YS/T 1158.3-2016銅銦鎵硒靶材化學(xué)分析方法 第3部分:鋁、鐵、鎳、鉻、錳、鉛、 鋅、鎘、鈷、鉬、鋇、鎂量的測(cè)定 電感耦合等離子體質(zhì)譜法
YS/T 1220-2018鉻靶材
YS/T 1234-2018鉻鉬合金(CrMo)靶材
YS/T 1235-2018鉬鈦合金(MoTi)靶材
YS/T 1357-2020磁記錄用鉻鉭鈦合金濺射靶材
中化所檢測(cè)有什么優(yōu)勢(shì)?為什么要選擇中化所?
1、中化所是集體所有制檢測(cè)機(jī)構(gòu)。
2、初檢樣品。
3、全國(guó)多家實(shí)驗(yàn)室分支,支持上門(mén)取樣/寄樣檢測(cè)。
4、檢測(cè)周期短,檢測(cè)費(fèi)用,實(shí)驗(yàn)方案齊全。
5、資質(zhì)齊全,實(shí)驗(yàn)室儀器齊全,科研團(tuán)隊(duì)強(qiáng)大。
6、36種語(yǔ)言支持編寫(xiě)MSDS服務(wù)
中化所寄樣檢測(cè)流程
1、寄樣
2、初檢樣品
3、報(bào)價(jià)
4、雙方確定,簽訂保密協(xié)議,開(kāi)始實(shí)驗(yàn)
5、7-15個(gè)工作日完成實(shí)驗(yàn)
6、出具檢測(cè)報(bào)告,后期服務(wù)。
以上是關(guān)于靶材檢測(cè)的相關(guān)介紹,如有其他需求可以咨詢(xún)實(shí)驗(yàn)室工程師幫您解答。

