X射線光電子能譜（XPS-EDS）

發(fā)布時間：2025-03-11 09:32:21- 點擊數(shù)： - 關(guān)鍵詞：X射線光電子能譜（XPS-EDS）

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X射線光電子能譜(XPS-EDS)

廠家： Ulvac-PhI

型號：PHI 5000 VersarProbe II

技術(shù)指標(biāo)

發(fā)射源：Al/Mg雙陽極

較小分辨率：0.48 eV

取樣深度：3nm

較大真空壓力：主分析室6.7×10-8Pa或更小

主要功能

X射線光電子能譜儀主要用于元素的定性分析，固體材料表面組成分析，材料化學(xué)狀態(tài)分析，元素成分的深度分析樣品的原位處理，高分子材料的表面和界面研究，化合物的結(jié)構(gòu)分析，還可以對材料表面的不均勻腐蝕，缺陷等進(jìn)行微區(qū)差異性分析，確定缺陷的成分，為選材和判斷失效提供幫助。

X射線光電子能譜（XPS-EDS）